Multi-arc sputtering Coating Equipment
本装置是在真空状态下引燃蒸发源(阴极),与阳极之间形成自持弧光放电,即从阴极弧光辉点放出阴极物质的离子,由于电流局部的集中,产生的焦耳热使阴极材料局部的爆发性的等离子化,在工件偏压的作用下与反应气体化合,而沉积在工件表面上形成被镀的膜层的设备。有沉积速度快、离化率高、离子能量大、设备操作简单、成本低、生产量大的优点
设备型号 | RM-MAS1000 | RM-MAS1150 | RM-MAS1200 | RM-MAS1600 | |
真空室尺寸 | 1000×1200 | 1150×1200 | 1200×1300 | 1600×1800 | 1600×2200 |
制膜种类 | 金色氮化钛、黑色碳化钛、七彩氧化钛、耐磨膜、超硬膜、金刚石膜、金属装饰膜等 | ||||
电源类型 | 直流电源、中频电源、电弧电源、灯丝电源、活化电源、脉冲偏压电源 | ||||
多弧靶 | 多弧靶5个或18个,1个或2个柱弧靶 | ||||
孪生靶 | 中频孪生柱靶或平面靶(1~4对) | ||||
真空室结构 | 立式前开门结构(双层水套式或水槽式冷却)、后置抽气系统 | ||||
真空系统 | 机械泵(RP)+罗茨泵(RSP)+扩散泵(DP或选配:分子泵、深冷系统-140℃)+维持泵(HP) | ||||
加热系统 | 常温至350度可调可控(PID控温),不绣钢加热管加热 | ||||
充气系统 | 质量流量控制仪(1-4路) | ||||
极限真空 | 6×10-4pa(空载、净室) | ||||
抽气时间 | 空载大气抽至5×10-3pa小于13分钟 | ||||
保压率 | 1h≤0.6pa | ||||
工件旋转方式 | 上旋转或下旋转+公自转变频无级可控可调,0-20转/分 | ||||
控制方式 | 手动+半自动/触摸屏+PLC | ||||
备注 | 真空室尺寸可按客户产品及特殊工艺要求订做 |