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多弧离子真空镀膜设备

多弧离子真空镀膜设备

Multi-arc sputtering Coating Equipment
本装置是在真空状态下引燃蒸发源(阴极),与阳极之间形成自持弧光放电,即从阴极弧光辉点放出阴极物质的离子,由于电流局部的集中,产生的焦耳热使阴极材料局部的爆发性的等离子化,在工件偏压的作用下与反应气体化合,而沉积在工件表面上形成被镀的膜层的设备。有沉积速度快、离化率高、离子能量大、设备操作简单、成本低、生产量大的优点

设备型号 RM-MAS1000 RM-MAS1150 RM-MAS1200 RM-MAS1600
真空室尺寸 1000×1200 1150×1200 1200×1300 1600×1800 1600×2200
制膜种类 金色氮化钛、黑色碳化钛、七彩氧化钛、耐磨膜、超硬膜、金刚石膜、金属装饰膜等
电源类型 直流电源、中频电源、电弧电源、灯丝电源、活化电源、脉冲偏压电源
多弧靶 多弧靶5个或18个,1个或2个柱弧靶
孪生靶 中频孪生柱靶或平面靶(1~4对)
真空室结构 立式前开门结构(双层水套式或水槽式冷却)、后置抽气系统
真空系统 机械泵(RP)+罗茨泵(RSP)+扩散泵(DP或选配:分子泵、深冷系统-140℃)+维持泵(HP)
加热系统 常温至350度可调可控(PID控温),不绣钢加热管加热
充气系统 质量流量控制仪(1-4路)
极限真空 6×10-4pa(空载、净室)
抽气时间 空载大气抽至5×10-3pa小于13分钟
保压率 1h≤0.6pa
工件旋转方式 上旋转或下旋转+公自转变频无级可控可调,0-20转/分
控制方式 手动+半自动/触摸屏+PLC
备注 真空室尺寸可按客户产品及特殊工艺要求订做
广泛应用于工具、模具的超硬涂层,汽车轮毂、高尔夫球具、钟表、酒店用品、卫浴洁具、灯具、眼镜镜架、五金制品、陶瓷和玻璃等的装饰涂层等领域。
镀膜材料 :适用各种金属镀膜(TiN、TiCN、CrN、TiALN、TiNbN、TiCrN、TiNC及各类金钢石膜DLC金属材料)。
镀膜品质 :膜层密度高、附着力强、沉积速度快等。

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