中频磁控溅射镀膜机

中频磁控镀膜设备溅射技术的特点是溅射稳定，介质膜沉积速率远高于一般直流磁控溅射，且膜层结合力进一步增强，是当今磁控技术的主流。

此设备无废气、废水、粉尘出现，是绝佳的大规模生产环保型设备。其形式可以为立式双开门结构，也可以成为生产线形式，根据不同要求定制。

可用于平面靶，圆柱靶，孪生靶，对靶等多种形式的中频溅射靶结构和布局。该类设备广泛应用于表壳、表带、手机壳、高尔夫球具、五金、餐具等镀TiN、TiC、TICN、TiAIN、CrN等各种装饰镀层。